一．設備簡(jiǎn)介

半導體 超純水設備 是應用 于半導體 生產(chǎn) 零件 清洗 的超純水設備 ，需要 符合 特定 的用水 水質(zhì)標準 ,半導體 超純水設備 出水 水質(zhì) 要符合 美國 ASTM 純水 水質(zhì)標準 、中國電子 工業(yè)電子級水質(zhì) 技術(shù)標準 (18 MΩ.cm 、15 MΩ.cm 、10 MΩ.cm 、2MΩ.cm 、0. 5M Ω.cm )、半導體 工業(yè)用 純水 指標 、集成電路 水質(zhì)標準 。 

宏潔 水務(wù) 在滿(mǎn)足用戶(hù) 用水 標準 的基礎 上，在設備 系統 中水箱均設有 液位 控制系統 、水泵 均設有 壓力 保護裝置 、在線(xiàn) 水質(zhì)檢測 控制儀表、電氣 采用 PLC可編程控制器，真正做到了無(wú)人職守 ，同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶(hù)要求 的方法 ，使設備與其它同類(lèi)產(chǎn)品相比較 ，具有更高的性?xún)r(jià)比和設備可靠性 。

二．設計標準 及依據

1.根據用戶(hù)供的詳細水質(zhì)報告 量身定制 ”。

2.水處理設備技術(shù)條件 《NB/T 10790-2021 》

3.反滲透水處理設備標準 《GB/T 19249-2017》

4. 低壓開(kāi)關(guān)設備和控制設備成套裝置 《IEC439-1》

5. 實(shí)驗室超純水技術(shù)指標標準 《GB6682 -2008 》

6.電子級超純水規格 《GB/T 11446.1-2013 》

三．工藝流程

原水－原水箱－原水加壓泵 －絮凝劑/還原劑－活性炭過(guò)濾器 － 超濾－阻垢劑－保安過(guò)濾器－一級高壓泵－一級反滲透－PH 調節－中間水箱 －二級高壓泵－二級反滲透 －純化水箱－EDI增壓水泵-紫外燈殺菌器－精密過(guò)濾器－EDI系統－超純水箱－終端輸送泵－TOC脫除器－拋光裝置－終端濾器－用水點(diǎn)

目前市場(chǎng)上的工藝根據原水水質(zhì)和用水水質(zhì)要求不同，所用工藝也有所不同。

超純水設備系統工藝介紹：

滿(mǎn)足用戶(hù)需要，達到符合標準的水質(zhì)，盡可能地減少各級的污染，在工藝設計上，取達國家自來(lái)水標準的水為源水，再設有介質(zhì)過(guò)濾器，活性碳過(guò)濾器，精密過(guò)濾器等預處理系統、雙級RO反滲透主機系統、EDI或離子交換混床系統等。

四．設計特點(diǎn)

1.系統采用全自動(dòng)控制 (同時(shí)亦可采用手動(dòng)控制 ），系統運行時(shí)可設定自動(dòng)反洗、再生程序 ；

2.各單元接線(xiàn)均在工廠(chǎng)內完成 ，減少安裝調試 時(shí)間 ；

3.一級 反滲透和二級反滲透設有回流管道 ，反滲透設備設有化學(xué)清洗裝置 ；

4. 管道一般采用304不銹鋼和UPVC材質(zhì) ；

5. 集成控制系統 和集成 儀表系統等，方便操作管理 ；

6.部件更加耐用，長(cháng)期無(wú)需維修；