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半導體超純水設備是應用于半導體生產(chǎn)零件清洗的超純水設備，需要符合特定的用水水質(zhì)標準,半導體超純水設備出水水質(zhì)要符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、中國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術(shù)標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)、半導體工業(yè)用純水指標、集成電路水質(zhì)標準。 宏潔水務(wù)在滿(mǎn)足用戶(hù)用水標準的基礎上，在設備系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線(xiàn)水質(zhì)...

國內半導體行業(yè)近幾年來(lái)的發(fā)展令人注目，特別是大型芯片制造企業(yè)在東南沿海地區蓬勃發(fā)展。芯片制造過(guò)程中要消耗大量的水，同時(shí)使用大量的化學(xué)試劑和特殊氣體，排放的廢水中成分復雜，因此如何選擇廢水處理系統，使廢水處理達標，并降低其處理費用，同時(shí)充分做好中水回用，降低單位產(chǎn)品的能耗，節約水資源，是我們的研究重點(diǎn)。

RO反滲透純水設備采用膜分離技術(shù)，當系統中所加的壓力大于進(jìn)水溶液滲透壓時(shí)，使水透過(guò)特制的半透膜，從溶液中分離出來(lái)，達到對水進(jìn)行分離、提取、純化和濃縮的目的。 本設備無(wú)需加熱，更沒(méi)有相變過(guò)程，因此比傳統的方法能耗低。ro反滲透純水設備體積小，操作簡(jiǎn)單，適用范圍廣，處理工業(yè)用水，不耗用大量酸堿，無(wú)二次污染，運行費用低。